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电镀镍中间体对酸性化学镀镍的影响研究

梁颖诗 , 鹿轩 , 林继月 , 张晓明 , 温青

电镀与涂饰

在由26.8 g/L NiSO4·6H2O、150 mL/L BH-320B和30 mg/L稳定剂组成的酸性化学镀镍液中,研究了电镀镍用中间体ATQM、SSO3、MPA和DEP对沉积速率、镀层性能和镀液稳定性的影响.结果表明,ATQM和SSO3可作为化学镀镍液的促进剂,MPA和DEP可用作化学镀镍液的光亮剂.此外,MPA和SSO3还对化学镀镍液起辅助稳定剂的作用.镀液中不同添加剂的存在对镀层结构无明显影响,所得镀层均为非晶态结构.

关键词: 化学镀镍 , 电镀镍中间体 , 光亮剂 , 促进剂 , 稳定剂

化学镀镍复合添加剂BH的工艺特性

鹿轩 , 梁颖诗 , 张晓明 , 林继月 , 胡耀红 , 赵国鹏

电镀与涂饰

开发了一种由含钼化合物、碘化钾以及邻苯二甲酸酐衍生物组成的复合添加剂BH,讨论了它对化学镀镍液稳定性、镀速以及镀层磷含量、硬度、孔隙率和微观形貌的影响。对测试化学镀镍液稳定性的PdCl2试验标准进行了改进:温度由80°C提高到90°C,PdCl2的浓度由0.1 g/L增加到1.0 g/L。研究结果显示,新标准检验的镀液稳定性差异能较好地反映实际生产中的镀液稳定性差异;当复合添加剂BH的添加量为2.0 mL/L时,化学镀镍层微观形貌得到较大的改善。经过新的PdCl2试验标准检验,该镀液可达到900 s不发生浑浊,镀速为24μm/h,镀层孔隙率0.57个/cm2,磷含量7.3%,硬度520 HV。

关键词: 化学镀镍 , 复合添加剂 , 镀液稳定性 , 孔隙率 , 硬度

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