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樊丽红 , 王朝勇 , 路钟杰 , 关瑞红 , 姚宁
表面技术
利用能量过滤磁控溅射技术,于低温条件下,在玻璃衬底上制备ITO薄膜,研究了过滤电极金属网栅目数、溅射功率、衬底温度对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明:在网栅目数为60目、衬底温度为81℃、溅射功率为165W的条件下,所得ITO薄膜的电阻率为4.9×10-4Ω·cm,可见光区平均透过率达到87％.
关键词: ITO薄膜 , 能量过滤磁控溅射 , 光电性能
