张力元
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段良飞
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杨雯
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杨培志
,
邓双
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涂晔
,
陈小波
人工晶体学报
为探讨其晶化过程及动力学机理,本文采用磁控溅射技术制备Al/Si薄膜,并利用快速光热退火制备微晶硅.通过采用不同的衬底温度及对铝膜进行退火处理,探究其晶化动力学过程.利用拉曼散射光谱(Raman)仪和X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行性能表征.结果表明:退火及衬底加热均能在界面形成非共融的硅铝化合物;...
关键词:
非晶硅薄膜
,
磁控溅射
,
铝诱导
,
动力学
段良飞
,
杨雯
,
杨培志
,
张力元
,
涂晔
,
李学铭
人工晶体学报
利用射频磁控溅射镀膜技术,采用不同的衬底温度及射频功率在玻璃衬底上制备了非晶硅薄膜;利用X射线衍射仪、拉曼(Raman)散射仪、台阶仪、紫外-可见光-近红外分光光度计及SPSS统计分析方法研究了衬底温度及射频功率对薄膜均匀性及其光学吸收特性的影响.结果表明:衬底温度从150℃增加到200℃,薄膜的生...
关键词:
射频磁控溅射
,
非晶硅薄膜
,
均匀性
,
光学吸收
自兴发
,
杨雯
,
杨培志
,
段良飞
,
张力元
人工晶体学报
利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下在石英玻璃基底上制备Cu2O薄膜,研究了O2和Ar流量比(O2/Ar)及基底湿度对沉积的Cu2O薄膜结构、表面形貌及光学性能的影响.结果表明:在O2/Ar为30∶80的气氛条件下,基底温度在室温(RT)和1...
关键词:
脉冲磁控溅射
,
Cu2O薄膜
,
氧氩比
,
基底温度
,
光学特性
