段钢锋
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赵高凌
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林小璇
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吴历清
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杜丕一
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翁文剑
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汪建勋
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韩高荣
功能材料
在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜.对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究.随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的.光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能.然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能.
关键词:
氮化钛
,
常压化学气相沉积法
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沉积时间
,
结构
,
阳光控制性能
吴玲
,
赵高凌
,
段钢锋
,
汪建勋
,
韩高荣
功能材料
利用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备了钒(V)掺杂的氮化钛(TiN)薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻仪和分光光度计等对TiN薄膜的结构、形貌、以及光电性能进行了分析.结果表明,薄膜呈典型的粒状结构.随着沉积温度的升高,薄膜的结晶强度不断增加,薄膜中V元素的比例增大,方块电阻逐渐降低.600℃时薄膜在近红外光区的反射率接近50%,在中远红外区的反射率达到93.74%,得到了兼具阳光控制功能和低辐射功能的V掺杂的TiN镀膜玻璃.
关键词:
APCVD
,
沉积温度
,
掺钒
,
氮化钛
,
结构和性能