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马捷 , 毕安园 , 王从曾 , 周美玲
稀有金属材料与工程
介绍了化学气相沉积法(CVD)制备难熔金属钼膜层的原理和方法.以MoF6和H2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层.分析研究了沉积层的组织、结构和硬度.实验结果表明:沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时,沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677×9.8 MPa;沉积温度较高时,沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼的硬度.
关键词: 化学气相沉积 , 钼 , 显微组织
王从曾 , 马捷 , 毕安园 , 周美玲
材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2005.03.016
介绍了化学气相沉积法制备难熔金属钼膜层的原理和方法.以MoF6和H2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层.分析研究了沉积层的组织、结构和硬度.实验结果表明:沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677HV;沉积温度较高时沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼.
