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化学抛光和退火对钛酸锶基片表面改性研究

陈光珠 , 杭寅 , 汪隽 , 何晓明 , 张连翰 , 李志鸿 , 华如江 , 何明珠

人工晶体学报

本文运用原子力显微镜检测传统机械抛光和化学机械抛光以及退火前后的钛酸锶(STO)衬底表面,研究了化学机械抛光和退火对钛酸锶(STO)基片表面形貌的影响,结果表明化学抛光可以使表面粗糙度达到0.214 nm,明显优于机械抛光.对比测量退火前后钛酸锶(STO)基片的双晶摇摆曲线,表明退火可以明显改善晶体...

关键词: 钛酸锶 , 超光滑表面 , 化学机械抛光 , 退火