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离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

张娟 , 沈鸿烈 , 鲁林峰 , 唐正霞 , 江丰 , 李斌斌 , 刘恋慈 , 沈洲

功能材料

采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响.结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1.

关键词: β-FeSi2 , 离子束溅射沉积 , Fe/Si多层膜 , 石英衬底

Fe/Si多层膜亚层厚度比对β-FeSi2薄膜结构和表面形貌的影响

鲁林峰 , 沈鸿烈 , 张娟 , 江丰 , 李斌斌 , 沈洲 , 刘恋慈

人工晶体学报

采用射频磁控溅射方法,在Si(111)和石英衬底上制备了Fe/Si亚层厚度比不同的多层膜.多层膜的总厚度为252 nm,Fe/Si亚层厚度比分别为1 nm/3.2 nm、2 nm/6.4 nm和20 nm/64 nm.在850 ℃, Ar气气氛中退火2 h后,Si衬底上的多层膜完全生成了β-FeSi2相.但石英衬底上同样Fe/Si亚层厚度比的多层膜除了生成β-FeSi2相,还生成了少量的ε-FeSi相.通过增加Si亚层的厚度至Fe/Si亚层厚度比为2 nm/7.0 nm,在石英衬底上也获得了单相的β-FeSi2薄膜, 其光学带隙为0.87 eV,表面均方根粗糙度为2.34 nm.

关键词: β-FeSi2薄膜 , 石英衬底 , 亚层厚度比 , 多层膜

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