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不同调制周期WSx/a-C多层膜的组织结构及摩擦学特性

杨芳儿 , 史玉龙 , 章荣 , 沈淑康 , 鲁叶 , 郑晓华

中国有色金属学报

采用磁控溅射法交替溅射WS2和石墨靶制备周期为4～23 nm的WSx/a-C纳米多层膜.采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子谱(xPs)等分析薄膜的组织结构和元素的化学价态;采用纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试薄膜的硬度、结合力和在潮湿...

关键词: 二硫化钨 , 多层膜 , 调制周期 , 组织结构 , 摩擦 , 磨损