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检索条件:作者=游志恒  

  • 论文(3)

直流辉光放电CVD法均匀生长纳米金刚石薄膜的研究

游志恒 , 满卫东 , 吕继磊 , 阳硕 , 何莲 , 徐群峰 , 白华 , 江南

人工晶体学报

采用直流辉光放电化学气相沉积设备,以H2/CH4/Ar混合气体为工作气体,在2英寸硅片沉积出了晶粒尺寸为20~ 40 nm的纳米金刚石薄膜.采用SEM、Raman、微摩擦试验机等分析了不同CH4浓度、Ar浓度对NCD薄膜生长特性的影响.研究结果表明:金刚石薄膜的晶粒尺寸随着CH4浓度的增加而减小,但...

关键词: 直流辉光放电 , 化学气相沉积 , 纳米金刚石 , 摩擦系数

一种提高MPCVD法制备金刚石膜均匀性的方法

涂昕 , 满卫东 , 游志恒 , 阳朔

硬质合金 doi:10.3969/j.issn.1003-7292.2014.02.004

采用自制的1 kW石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积装置,以氢气和甲烷作为气源在镜面抛光的(100)面单晶硅片上沉积了金刚石薄膜.实验共制得两个样品,其中一个样品在制备的过程中加装了难熔的金属钽环,利用等离子体易吸附于金属钽环表面的特性,缩小了硅片中间与边缘等离子体密度差异,另外一个样品没有加装难熔...

关键词: 微波等离子体化学气相沉积 , 金刚石膜 , 均匀性 , 方法

衬底位置对制备(100)面金刚石薄膜的影响

张玮 , 满卫东 , 林晓棋 , 游志恒 , 吕继磊 , 江南

硬质合金 doi:10.3969/j.issn.1003-7292.2013.12.007

本文利用5 kW微波等离子体装置,在直径22 mm的石英上沉积金刚石薄膜.实验研究了衬底在不同位置对沉积金刚石薄膜的质量产生的影响.实验中将2块石英衬底编号为A和B,样品A被放在偏离钼基片台中心5 mm的位置,使石英的中间区域偏离等离子体球,而边缘区域处于等离子体球的下方.通过SEM和拉曼光谱表征所...

关键词: 微波等离子体 , 衬底位置 , 沉积 , 薄膜