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LMBE法异质外延β-Ga2O3薄膜及其紫外和发光特性的研究

郭进进 , 刘爱华 , 满宝元 , 刘枚 , 姜守振 , 侯娟 , 孔德敏

材料导报

采用激光分子束外延法在蓝宝石衬底上异质外延β-Ga2O3薄膜.研究了氧分压对薄膜表面结构和结晶程度的影响,结果表明β-Ga2O3薄膜的均方根粗糙度和X射线衍射谱峰的半高宽随着氧分压的减小呈现先减小后增大的趋势.并对氧分压为10-2Pa条件下的薄膜进行了光致发光谱、紫外透射谱、禁带宽度变化和拉曼谱的研究,结果显示β-Ga2O3薄膜的带隙随氧分压的减小而不断增大,β-Ga2O3薄膜具有蓝光发光和深紫外高透射特性,是用于光电器件特别是紫外特性氧敏传感器的最佳材料之一.

关键词: β-Ga2O3薄膜 , 氧分压 , 紫外透射 , 光致发光 , 禁带宽度

SiC缓冲层用于改善硅基氮化镓薄膜的质量研究

朱华超 , 满宝元 , 庒惠照 , 刘玫 , 薛成山

功能材料

用脉冲激光沉积法在硅衬底上沉积GaN薄膜,为了减小Si衬底与GaN薄膜之间的热失配和晶格失配引入SiC缓冲层.脉冲激光沉积后的GaN薄膜是非晶结构,将样品在氨气氛围中在950℃下退火15min.得到结晶的GaN薄膜.并用X 射线衍射、原子力显微镜、傅立叶红外吸收谱、光致发光谱研究了SiC缓冲层对GaN薄膜的结晶、形貌和光学性质的影响.

关键词: 脉冲激光沉积 , 氮化镓薄膜 , 碳化硅缓冲层 , 退火

ZnO多角晶须的制备及表征

冯立兵 , 刘爱华 , 刘玫 , 马玉英 , 满宝元

功能材料

采用脉冲激光沉积技术先在Si(111)衬底上制备Zn薄膜,然后在石英炉中热蒸发金属锌粉的方法制备了ZnO晶须.分别用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和光致发光(PL)谱对样品的结构、成分、形貌和光学特性进行了表征.结果表明,采用此方法得到的ZnO多角晶须为六方纤锌矿结构, 其根部直径大约在100~500nm之间,尖部直径大约为40nm左右,长约几个微米.Zn薄膜能够有效地促使晶核的形成与长大从而促进了ZnO晶须的形成.最后, 简单讨论了ZnO 纳米晶须的生长机制.

关键词: ZnO , 晶须 , X射线衍射 , 光致发光

衬底温度对脉冲激光沉积在Si衬底上Zn_(0.95)Co_(0.05)O薄膜的影响

姜守振 , 王传超 , 满宝元 , 许士才 , 王善朋

功能材料

在不同的衬底温度下在n型Si(111)衬底上采用脉冲激光沉积的方法生长了(002)择优取向的具有室温铁磁性的Zn0.95Co0.05O薄膜。X射线衍射显示所生长的薄膜呈六方纤锌矿结构。X射线光电子能谱测试表明薄膜中出现的室温铁磁性不是由于Co团簇产生的。发现薄膜生长过程中产生的间隙锌、氧空位以及晶格缺陷对铁磁性有显著的影响。通过改变衬底温度可以控制薄膜中间隙锌、氧空位及晶格缺陷的数量,薄膜的铁磁性同时也可以被明显地改变,这是缺陷与薄膜的室温铁磁性相关的直接证据。

关键词: ZnCoO , 铁磁 , 脉冲激光沉积 , 温度

脉冲激光沉积法制备β-FeSi2半导体薄膜

马玉英 , 刘爱华 , 许士才 , 郭进进 , 侯娟 , 满宝元

材料导报

采用脉冲激光沉积(PLD)法在p型Si(100)衬底上制备了β-FeSi2半导体薄膜,并在沉积系统中进行了800℃、3h的原位高温退火过程,最后采用X射线衍射仪、3D显微镜、原子力电子显微镜、荧光光谱仪分析了实验样品的晶体结构、表面形貌、元素组成、红外吸收和光致发光特性.分析实验结果发现,制备的单相β-FeSi2多晶半导体薄膜结晶质量良好,β-FeSi2在Si(100)衬底上沿(202/220)方向择优生长,且在常温下测得了β-FeSi2半导体薄膜的光致发光谱.

关键词: β-FeSi2 , 薄膜 , PLD , 光致发光 , 3D显微分析

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