方容川
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常超
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廖源
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叶祉渊
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薛剑耿
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王冠中
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马玉蓉
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尚乃贵
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牛晓滨
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王代冕
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吴气虹
,
揭建胜
材料导报
关键词:
牛晓滨
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廖源
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常超
,
余庆选
,
方容川
无机材料学报
在HFCVD系统中采用SiH4/CH4/H2/N2混合气体成功的制备了SiCN薄膜.SEM照片显示制备的SiCN薄膜由棒状结构构成,而在HRTEM下发现这些棒状结构是由生长在无定型SiCN基体当中的纳米晶粒组成的.进一步的SAED和XRD分析说明SiCN纳米晶粒具有类似于α-Si3N4的结构.XPS和FTIR分析表明薄膜中含有Si、C、N和O几种元素以及C=N、Si-N和C-N等共价键,但是并没有观察到C-Si的存在.由实验得出结论,SiCN晶体的生长包括两个步骤:α-Si3N4团簇的生长和C取代其中Si的过程.
关键词:
HFCVD
,
SiCN films
,
α-Si3N4