张峰
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潘守甫
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张学军
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张忠玉
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郑立功
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程灏波
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牛海燕
功能材料
磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术.首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理.然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究.在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa,该应力足以完成磁流变抛光.最后给出一个磁流变抛光的实例,证明了磁流变抛光液的实用性.实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s.
关键词:
磁流变抛光
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磁流变抛光液
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剪切应力
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抛光区
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材料去除率
