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含碘鎓盐光产酸剂和增感染料的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂

刘娟 , 孔繁荣 , 余金星 , 王力元

影像科学与光化学

4,4’-二甲苯基三氟甲磺酸碘鎓盐可以被染料增感,在365 nm光照时分解产酸.尽管产生的酸与染料的胺基发生作用,依然能在后烘过程中催化缩醛聚合物酸敏基团的分解,但需要稍高的后烘温度和稍长的后烘时间.基于此,本文将酚醛树脂、缩醛聚合物、碘鎓盐产酸剂和染料组成了一种新型的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂材料,在曝光量为100 mJ/cm2时可得到分辨率为0.8μm的清晰图形.染料与鎓盐光产酸剂组成的感光体系具有很好的漂白性,改善了抗蚀剂材料的透明性.

关键词: 敏化剂 , 产酸剂 , 染料 , 正型 , i-线抗蚀剂 , 酸解 , 缩醛聚合物

纳米压印抗蚀剂研究进展

霍永恩 , 贾越 , 王力元

影像科学与光化学

纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、有机硅改性的聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结.

关键词: 纳米压印 , 抗蚀剂 , 成像

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