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直流氩等离子体硅粉纯化工艺的研究

王飞 , 尹盛 , 王家鑫 , 陈亮亮

功能材料

针对立式反应室、直流氩等离子体情况,建立硅粉的运动学模型,绘出粉粒沉降时间与粉粒粒度和进气速率的关系曲线,并通过该模型选择进气速率为4～10L/s,粉粒的粒度范围为70～100μm.为了提高粉粒沉降过程中纯化效果,建立并分析鞘层模型中与鞘层厚度、鞘层区离子浓度以及鞘层离子平均动能有关的工艺参数的变化...

关键词: 粉粒纯化 , 工艺参数 , 鞘层 , 太阳级硅