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  • 论文(4)

镁合金化学镀镍工艺

王建泳 , 成旦红 , 张炜 , 李科军 , 曹铁华

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.12.013

研究了采用碱式碳酸镍作为镍源在AZ91镁合金表面直接化学镀镍的工艺.该工艺采用酸洗活化一步法,即经过脱脂除油,再用H3PO4、NH4HF2以及缓蚀剂处理,无需活化.通过比较3种酸洗液的应用效果,确定60 mL/L H3PO4,40 g/L NH4HF2,30 g/L H3BO3的混合液作为酸洗液.酸...

关键词: 镁合金 , 化学镀镍 , 预处理

超大集成电路互连线电沉积铜的研究动态

张炜 , 成旦红 , 王建泳 , 郁祖湛

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.12.011

铜具有比铝更低的电阻率、更优异的抗电迁移性能,使用铜作为互连线材料不但可以减少RC延迟,而且还能提高集成电路的可靠性.在超大规模集成电路(ULSI)制造中用铜取代铝作为互连材料的铜互连技术发展非常迅速,铜互连工艺采用了许多新的技术,其中电沉积铜就是核心技术之一.介绍了目前ULSI铜互连中电沉积铜技术...

关键词: 电沉积铜 , 脉冲电沉积 , 超大规模集成电路 , 互连

银-纳米SiO2脉冲复合电镀工艺条件的优化与性能研究

苏永堂 , 成旦红 , 张庆 , 王建泳 , 郭长春

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.10.002

采用正交试验,以镀层显微硬度为评价标准,得到银-纳米SiO2脉冲复合电镀的最佳工艺条件为:6 mg/L的阳离子表面活性剂,100mg/L的非离子表面活性剂,15g/L的纳米SiO2,脉宽0.5ms,占空比40%,脉冲平均电流密度0.8~1.1A/dm2.正交试验结果表明,纳米SiO2含量对镀层的影响...

关键词: 脉冲电镀 , 银-纳米SiO2复合镀层 , 正交试验 , 硬度 , 分散能力 , 覆盖能力 , 钎焊性

AZ31镁合金无氰化学镀镍工艺的研究

王建泳 , 成旦红 , 张庆 , 李科军 , 苏永堂

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2006.03.013

研究了在AZ31镁合金表面二次浸锌后直接进行化学镀镍的工艺.分析了pH、温度、镍离子质量浓度和次磷酸钠质量浓度对镀速的影响,并测试了镀层的结合力、表面形貌、成分含量和耐蚀性.结果表明,以二次浸锌法进行预处理,无需氰化镀铜打底;在pH为7,碱式碳酸镍质量浓度25g/L,次磷酸钠质量浓度30g/L时,镀...

关键词: 镁合金 , 化学镀镍 , 镍磷合金AZ31 , 腐蚀电位

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