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采用180nm CMOS工艺的USB2.0端点控制器

詹琰 , 潘利坤 , 赵占霞 , 李拥华 , 王德明 , 马忠权

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.04.015

采用Verilog硬件描述语言设计了用于USB2.0设备控制中的端点控制器.端点数可由用户配置最多达16个.支持8位/16位USB接口,并支持8位/16位/32位AHB或8051接口以及32位的DMA接口.该端点控制器采用180nm CMOS工艺进行流片,所有功能均通过了测试.

关键词: USB2.0 , 端点控制器 , Verilog硬件描述语言 , CMOS

Cu-Ni-Mn合金晶界析出特点的观察

潘奇汉 , 王德明

金属学报

本文用透射电子显微镜研究了时效温度、时间和冷变形对淬火后的Cu-20Ni-20Mn合金时效析出相的影响.结果表明时效温室影响析出相形核的位置、形貌和大小.高于400℃时效能抑制品界择优析出,并且使析出相细小和球状化.冷变形也能有效地抑制晶界择优析出,改变析出相的分布,形貌和大小,增加变形量可使析出相细小而均匀地分布于晶内.

关键词:

射频溅射法制备的纳米硅薄膜的能带结构和Ⅰ-Ⅴ特性

赵占霞 , 栗敏 , 詹颜 , 王德明 , 马忠权 , 孙铁囤

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.03.017

用高频溅射法在P型硅衬底上生长了纳米硅薄膜,衬底温度控制在95℃左右,工作气体选用H2+Ar,氢气的分压控制在31%到70%,同时改变薄膜的沉积时间.Tauc曲线显示出用射频溅射法制备的薄膜是一种宽带隙材料.结合实验数据,在HQD理论基础上,给出了这种薄膜的能带结构图,并在理论和实验上分别对薄膜的Ⅰ-Ⅴ特性进行了研究.

关键词: 纳米硅薄膜 , RF溅射 , Ⅰ-Ⅴ曲线 , 能带模型

截断半径变化对汽液界面参数和分维数的影响

谭宁 , 刘朝 , 王德明 , 曾丹苓

工程热物理学报

本文在分形理论基础上,采用分子动力学模拟方法研究了在平衡状态下的汽液界面参数,得了界面区内的密度、温度、压力张量、表面张力和分维数的分布.研究表明,利用分形理论可以较好的反映汽液界面的特性.势函数的截断半径对汽液界面参数和分维数的模拟值存在影响.

关键词: 汽液界面 , 分子动力学模拟 , 分维数

超声波探伤在锻件质量控制过程的应用

王德明

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2004.z2.060

关键词:

分数布朗函数在分子动力学模拟中的应用

刘娟芳 , 曾丹苓 , 刘朝 , 王德明

工程热物理学报

本文基于分子动力学模拟的结果,采用分形理论方法提取分维数作为特征数,构成分数布朗运动的位移增量、速度和速率的概率密度函数来描写微粒的运动.同时,与分子动力学模拟直接统计结果比较,二者吻合较好.

关键词: 分形理论 , 分维数 , 分子动力学模拟

基于绝热氧化的煤自燃倾向性鉴定研究

陆伟 , 王德明 , 仲晓星 , 周福宝

工程热物理学报

本文首先指出了我国现行的煤自燃倾向性色谱吸氧鉴定法的不足之处,同时给出了煤自燃倾向性鉴定标准的基本原则.根据绝热氧化理论和绝热氧化方程,设计了相应绝热氧化实验装置.通过理论和实验研究,提出了能够反映煤自燃关键阶段,即低温氧化阶段动力学参数活化能E作为煤自燃倾向性鉴定指标,并测试了五个典型煤样的低温氧化活化能E,同时根据该指标对煤自燃倾向性等级进行了初步划分.最后,通过现场煤自燃发火期与煤物理吸附氧量和低温氧化活化能E的对比,对该指标的实用性和科学性进行了检验.

关键词: 煤自燃 , 绝热氧化 , 倾向性

桐沟金矿氰化工艺技术改造实践

焦瑞琦 , 王德明 , 王静

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2004.08.012

灵宝市桐沟金矿氰化车间对工艺流程和相关设备进行了技术改造.改造后,磨矿分级、氰化浸出、污水排放等工艺指标达到了较高水平.此次改造不但为企业创造了较大的经济效益,而且减少了环境污染.

关键词: 氰化 , 改造 , 经济效益

利用分形理论研究气液界面特性

王德明 , 曾丹苓 , 刘娟芳

工程热物理学报

利用分形理论对Lennard-Jones12-6流体气液界面性质进行了研究.得到了密度分布及温度分布,将表面张力与气液界面的分形维数进行关联.分形维数是界面层所固有的,它与界面的其它特性有着本质的联系,因此,可以通过测量界面层的分形维数,再利用此分形维数确定界面的其它特性.这种全新的测量界面特性的方法有望由此产生.

关键词: 分子动力学 , 分形理论 , 分形维数 , 表面张力 , 气液界面