徐文彬
,
王德苗
材料导报
在前期工作基础上,研究了不同反应气体组合条件下SiQ_xN_y栅介质薄膜的反应溅射制备.反应气体的不同组合首先导致薄膜氮氧比以及沉积速率的不同,并进一步导致薄膜电学性能的差异.对薄膜电容-电压特性的分析表明,沉积速率降低会使薄膜体缺陷密度减小,而氮含量的减少则有助于提高薄膜界面质量.最终结果显示,采...
关键词:
氯氧化硅
,
氯氧比
,
C-V特性
,
栅介质
王会
,
徐晓
,
冯斌
,
王德苗
机械工程材料
doi:10.11973/jxgccl201511015
采用磁控溅射工艺在微波腔体耦合器内壁沉积了银/铜双层膜,并对该膜的电性能以及膜基结合强度等进行了研究.结果表明：采用磁控溅射法沉积的银/铜双层膜和基体的结合强度可达5．0 MPa；其中,内壁沉积有2μm银/2μm 铜双层膜的耦合器的电性能最佳,耦合度为5．75~6．20 dB,隔离度为31．02 d...
关键词:
磁控溅射
,
耦合腔
,
双层膜
,
电性能
,
结合强度
金炯
,
王德苗
,
董树荣
材料导报
低辐射薄膜(Low-E Film)发展了20多年,它的高可见光透射率和高红外紫外光的反射率被应用在很多领域.低辐射薄膜一般由在线法和离线法制备,所得结构不同,性能也有较多差异.时低辐射薄膜的制备方法、性能,以及最新研究进展和应用进行了综述,并对2种类型的低辐射薄膜进行了比较.
关键词:
低辐射薄膜
,
研究进展
,
综述
魏淑萍
,
王德苗
,
金浩
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.05.001
微波介质陶瓷谐振器在无线通信基站中有广泛的应用,其品质因数(Q值)主要由材料的介质损耗和金属膜的电导损耗所决定的,传统丝印烧结的金属化膜损耗较大,已成为限制谐振器Q值的主要因素.本文采用直流磁控溅射对相对介电常数为45的微波介质陶瓷进行金属化处理,研究了不同的清洗工艺和复合膜系对介质谐振器性能的影响...
关键词:
直流磁控溅射
,
介质谐振器
,
复合膜系
,
等离子清洗
,
Q值
