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磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜

王怀义 , 刁训刚 , 王武育 , 杨海刚 , 丁破 , 郝维昌 , 王天民

功能材料

利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.

关键词: 磁控溅射 , 纳米微晶 , NiOx薄膜

ZAO/WO3/PAMPS/ZAO全固态电致变色薄膜器件的制备和性能研究

张金伟 , 刁训刚 , 马荣 , 张鲁玉 , 王怀义 , 武哲 , 舒远杰

稀有金属材料与工程

采用直流反应磁控溅射法制备ZAO薄膜和WO3薄膜,PAMPSS-Li+作为离子储存层和离子导电层,ZAO薄膜作为对电极,制备成ZAO/WO3/PAMPS/ZAO电致变色器件.运用XRD、SEM、可见分光光度计、伏安特征曲线分别对薄膜的晶体结构、成分、微观表面形貌、透射光谱特性及电致变色性能进行分析,探讨了WO3薄膜的电致变色性能和微观结构之间的关系.结果表明:PAMPS-Li+离子胶体是一种很好的离子储存层和离子导电层.实验中全固态电致变色薄膜器件在可见光范围内着色态和褪色态平均透光率差值高达50%以上.

关键词: 电致变色器件 , 全固态 , 直流磁控溅射 , PAMPS-Li+ , WO3

直流反应溅射制备Niox薄膜及其电致变色机理研究

杨海刚 , 王聪 , 朱开贵 , 刁训刚 , 王怀义 , 王天民

稀有金属材料与工程

采用直流反应溅射在ITO导电玻璃上沉积了NiOx薄膜,研究了O2流量对其光学和电致变色性能的影响,利用XRD、SEM和XPS对薄膜的微结构和成分进行了表征.通过循环伏安特性曲线和可见光透射谱对样品的电化学和电致变色性能进行了研究,并且讨论了NiOx薄膜成分与电致变色性能之间的关系.研究发现反应溅射制备的NiOx薄膜是Ni2+和Ni3+混合价态,颜色为淡棕色,随着薄膜中Ni3+成分增加,薄膜颜色变深,调色范围有减小的趋势.NiOx薄膜表现出阳极电致变色特征,作者认为其电致变色的行为是由于Li+和OH-在薄膜中的注入和拉出引起的Ni2+和Ni3+发生转化所致.

关键词: NiOx薄膜 , 反应溅射 , 电致变色 , 变色机理

ITO/WO3/LiTaO3/NiOx/ITO全固态电致变色器件的制备及性能研究

张金伟 , 刁训刚 , 王怀义 , 王天民 , 武哲 , 舒远杰

稀有金属材料与工程

利用磁控溅射法在不同流量的液氮低温冷却的条件下在ITO玻璃上制备WO3、LiTaO3、NiOx、ITO薄膜,5层薄膜组成ITO/WO3/LiTaO3/NiOx/ITO全固态电致变色器件.采用XRD、SEM、可见光分光光度计等测试手段进行对比分析.结果发现:低温制备的WO3薄膜为非晶态结构,在可见光范围内漂白态和着色态的平均透射率差△T可以达到70%以上.LiTaO3薄膜表面的颗粒度比较小,结构致密,其厚度对整个器件的光学性能有一定影响,在可见光范围内平均透射率达到95%.在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2+离子参与变色反应.该器件显示出较好的电致变色特性.

关键词: 液氮 , 低温 , 磁控溅射 , 电致变色器件

基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响

张金伟 , 刁训刚 , 王怀义 , 黄俊 , 舒远杰

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2007.05.011

分别在室温和基片温度低于223 K的条件下,采用直流反应磁控溅射法制备WO3薄膜.对两种条件下制备的薄膜晶体结构、透射光谱特性及电致变色性能进行对比分析.结果表明,低温沉积有利于WO3薄膜非晶化,使得Li+的抽取更加容易,进而显示出良好的变色性能.低温制备的WO3薄膜在可见光400~800 nm范围内着色态和漂白态平均透光率差值达70%以上,在690 nm处的着色系数达到了48.7 cm2/C,具有良好的变色效率.

关键词: 低温 , 三氧化钨 , 电致变色 , 非晶态

一种增磁装置在磁控射频溅射制备薄膜中的应用

王怀义 , 刁训刚 , 王聪 , 郝维昌 , 王天民

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2011.03.001

为提高射频溅射成膜率,本文报道了一种配置于磁控溅射装置的射频(RF)增磁装置.基于此装置的实验结果表明,在不对原有装置作任何改动的情况下,在完全相同的溅射参数下,采用此装置可使射频溅射成膜率增大为原来的4倍左右.进而,该装置提供了一种能有效地节省溅射制备时间,改善薄膜结构的简便易行的新型手段.

关键词: 射频磁控溅射 , 增磁装置 , 沉积速率 , 薄膜结钩

基于WO3和NiOx的单基片全无机智能窗器件的快速制备及其性能的研究

王怀义 , 刁训刚 , 王武育 , 郝维昌 , 王聪 , 王天民

功能材料

介绍了利用磁控溅射和一种液氮冷却装置,制备非晶态WO3薄膜、非晶态LiNbO3薄膜和纳米微晶态NiOx薄膜的有效方法.进而,使用这种液氮冷却装置,采用全程基片冷却方法,制备了单基片无机全固态智能窗--G│ITO│NiOx│LiNbO3│WO3│ITO器件.实验结果表明,在400~800nm的可见光范围内,该器件经过1000次循环后,它的漂白态透射率为63.0%,而着色态透射率为10.6%,这一初步工作表明,基片冷却方法应该是制备有优异性能的无机全固态电致变色智能窗的有效方法.

关键词: 磁控溅射 , 无机全固态 , 电致变色 , 智能窗

基于磁控溅射制备纳米微晶NiOx薄膜的方法

王怀义 , 刁训刚 , 王武育 , 郝维昌 , 王聪 , 王天民

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2009.04.017

使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiOx电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiOx薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiOx薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备的薄膜,且该薄膜的O/Ni比率也明显高于室温时制备的NiOx薄膜的O/Ni比率.

关键词: 无机非金属材料 , 磁控溅射 , 纳米微晶态 , 电致变色 , NiOx薄膜

冷核聚变十五年

江兴流 , 刘锐 , 王怀义 , 乐小云 , 韩丽君 , 文雄伟

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2004.04.047

参考在美国麻省理工学院召开的第十届国际冷核聚变会议(ICCF-10)内容, 对冷核聚变研究的现状作一简单介绍. 国际原子能委员会(IAEA)分管聚变的官员(1995-2001年)T.J.Dolan在清华召开的ICCF-9国际会议上的总结会上提出五种重要的解释冷聚变现象的理论模型, 其中有江兴流提出的涡旋动力学模型. 涡旋动力学模型的主要论点在于: 局域瞬态非平衡体系产生涡旋, 而涡旋的内聚作用和极化效应, 使体系内的粒子相互靠近, 产生局域极化核反应和高度定向的轴向加速高能粒子. 这种局域瞬态非平衡体系出现在电极微突起处或多层膜的非平衡点处. 这一理论成功地解释了许多异常放热和核嬗变现象, 因而受到了广泛重视. 对涡旋动力学作以简单介绍.

关键词: 零点能 , 核反应 , 挠场 , 电化学

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