刘立强
,
张叔国
,
张国莹
,
牛文贺
,
井敏
,
王晓临
,
王刚
功能材料
采用二次腐蚀法制备了梯度折射率减反射光伏玻璃。SEM分析表明,多孔减反射层的微结构尺度在20～30nm左右,膜层厚度为100～300nm。通过计算模拟,确定了膜层折射率分布形式为Gaussian-like型。制备的梯度折射率减反射光伏玻璃透过率〉96%的带宽超过了1200nm;在390～1022nm波段的透过率〉99%;在350～1084nm的双面反射率〈1%,其中624～922nm的双面反射率低于0.2%。
关键词:
梯度折射率
,
二次腐蚀法
,
减反射
,
光伏玻璃
杨向荣
,
张明
,
王晓临
,
曹万强
材料导报
大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本成为IC产品发展的趋势,随着集成度的提高,芯片制造中最关键的制造工艺--光刻技术也面临着愈来愈多的难题.新兴的193 nm浸入式技术、157 nm极短紫外光刻(Euv)、电子束投影光刻(EPL)、纳米压印光刻等技术将是解决这些问题的关键.介绍了193nm浸入式技术、157nm光刻技术、电子束投影(EPL)光刻技术以及纳米压印光刻技术.指出纳米压印光刻技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单等优点,能实现分辨率达5 nm以下的水平,是最具发展前途的下一代光刻技术之一.
关键词:
光刻
,
光源
,
曝光
