陈盛
,
史伟民
,
金晶
,
秦娟
,
王漪
,
夏义本
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.06.009
采用PECVD工艺在普通玻璃衬底上制备非晶硅薄膜,用波长为532nm的倍频Nd:YAG激光对非晶硅薄膜的表层进行了晶化.研究了激光能量密度对非晶硅薄膜表面结晶度以及晶粒大小的影响,并对晶化后的非晶硅表面形貌进行了表征.研究结果表明:该非晶硅薄膜晶化的阈值能量密度为800 mJ/cm2,当激光能量密度...
关键词:
等离子体化学气相沉积
,
激光晶化
,
纳米硅
