李广
,
殷景华
,
刘晓旭
,
冯宇
,
田付强
,
雷清泉
绝缘材料
doi:10.3969/j.issn.1009-9239.2011.06.006
采用原位聚合法制备了聚酰亚胺/氮化铝(PI/AlN)纳米复合薄膜,用小角散射(SAXS)、扫描电镜(SEM)对薄膜进行表征,研究了不同纳米掺杂量对材料电阻率、介电常数(ε)和介质损耗因数(tanδ)的影响.结果表明,随着纳米AlN含量的增加,分形结构由质量分形转变为表面分形,当AlN含量为1%时,复...
关键词:
聚酰亚胺
,
氮化铝
,
小角散射
,
介电常数
,
体积电阻率