田宇迪
,
汪建华
,
胡晖
,
翁俊
硬质合金
doi:10.3969/j.issn.1003-7292.2014.05.006
通过对实验室自主研发的10 kW新型微波等离子体装置基片台的改进,获得了更高的基片温度,更长的保温时间以及更均匀的基片温度.用直径为80 mm的硅片在改进后的基片台上用MPCVD法沉积大面积金刚石膜.在微波功率为5 kW,沉积气压为5.6 kPa环境下基片中心获得900℃的基片温度,沉积时间8h.实...
关键词:
基片台改进
,
大面积金刚石膜
,
MPCVD
,
金刚石薄膜均匀性
