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位错对BBO晶体光学均匀性的影响

白若鸽 , 朱镛 , 陈创天

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.003

本文报道了BBO晶体中位错密度对光学均匀性的影响.样品的光学均匀性是利用Wyko RTI 4100型干涉仪进行测量.采用侵蚀法观测BBO晶体{001}面的位错密度,在一定的侵蚀条件下,观察到BBO晶体{001}面上的位错露头为突起的正三方锥形,底边与X轴平行.在显微镜下测量出样品的蚀坑密度.实验证明,随着位错密度的增加BBO晶体的光学均匀性逐渐变差.

关键词: BBO晶体 , 化学腐蚀 , 蚀坑密度 , 光学均匀性