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倾斜磁控溅射制备低阻高透ITO薄膜及其光电特性

赵海娇 , 王丛 , 石晓光 , 刁训刚

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.06.016

利用直流磁控溅射方法,在Ar和O2的混合气氛中,采用陶瓷靶制备ITO薄膜;采用紫外-可见-红外分光光度计和四探针法研究了溅射工艺参数对ITO薄膜的光电特性的影响.实验结果表明,当靶材角度在23-25℃、O2流量在7-9sccm、溅射时间在60-90min和溅射功率在100-120W时获得可见光透过率高于90%,方阻在10-20Ω/口之间的优质ITO薄膜.

关键词: ITO透明导电膜 , 直流磁控溅射 , 室温沉积 , 靶材倾斜角度

30.4 nm光电成像系统分辨率的初步实验研究

薛玲玲 , 陈波 , 石晓光 , 薛国俊

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2003.04.023

本文基于微通道板MCP(Microchannel Plate)探测器件设计一套成像系统,用于对波长为30.4 nm的极紫外EUV(Extreme Ultraviolet)光进行成像.结果获得了一宽度为3 mm的狭缝的像,实验测得490μm的成像系统的空间分辨率,并分析了影响系统分辨率的各种因素及为提高系统分辨率所应采取的措施.

关键词: 极紫外 , 激光等离子体 , 单色仪 , MCP

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