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检索条件:作者=程伟明  

  • 论文(7)

不同退火时间对[Ag/FePt]10多层膜磁性能和微结构的影响

董凯锋 , 程晓敏 , 鄢俊兵 , 程伟明 , 缪向水 , 许小红 , 王芳 , 杨晓非

功能材料

采用射频磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了不同Ag层厚度的[Ag/FePt 2nm]10多层薄膜,经550℃真空热处理后,得到L10有序结构的FePt薄膜.实验结果显示,FePt单层薄膜经550℃退火30min后其易磁化轴处于垂直方向和面内方向之间,而550℃退火60min后其易磁化轴处于垂直于膜面...

关键词: FePt薄膜 , 矫顽力 , 退火时间

Pt底层对TbFeCo薄膜磁性能与磁光性能的影响

程伟明 , 李佐宜 , 杨晓非 , 黄致新 , 鄢俊兵 , 李震 , 程晓敏 , 林更琪

稀有金属材料与工程

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,研究了Pt底层对TbFeCo薄膜磁性能与磁光性能的影响.结果表明:具有微小颗粒凹凸结构的Pt底层可以显著增大TbFeCo薄膜的垂直磁各向异性场与矫顽力,改善薄膜的磁光温度特性.

关键词: 射频磁控溅射 , Pt底层 , TbFeCo/Pt非晶垂直磁化薄膜 , 矫顽力 , 克尔旋转角

溅射工艺条件对TbFeCo/Pt薄膜磁性能的影响

程伟明 , 李佐宜 , 胡珊 , 杨晓非 , 董凯锋 , 林更琪

功能材料

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,系统研究了溅射工艺参数对TbFeCo薄膜磁性能的影响.振动样品磁强计测量结果表明:Tb含量在补偿成分点附近,采用较低的溅射氩气压与Pt底层,有利于提高TbFeCo薄膜的磁性能;当Tb含量为0.24,溅射功率为300W,溅射气压...

关键词: 射频磁控溅射 , 非晶垂直磁化膜 , 矫顽力 , 饱和磁化强度 , 光磁混合记录

Pt的含量对[Fe/Pt]n多层膜磁性能的影响

董凯锋 , 杨晓非 , 鄢俊兵 , 程伟明 , 程晓敏

功能材料

采用射频磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了不同膜层结构的[Fe/Pt]n多层膜,经不同温度真空热处理后,得到L10有序结构的FePt薄膜.实验结果表明,[Fe/Pt]n多层膜结构可以有效降低FePt薄膜的有序化温度,350℃退火30min后其平行膜面矫顽力可达1.6×105A/m;多层膜结构中,Pt...

关键词: L10-FePt薄膜 , 多层膜结构 , 矫顽力 , 有序化温度

磁控溅射制备Cu底层的实验研究

张迪 , 程伟明 , 林更其 , 杨晓非

材料导报

使用射频磁控溅射方法在载玻片上制备Cu薄膜,并通过调整其溅射参数来改变Cu薄膜的内部结构.实验结果表明:当基的片加热温度为100~150℃、薄膜厚度为405 nm、溅射功率为150~300 W时,所制得的沿(111)面择优生长的Cu薄膜的Ⅰ(111)/Ⅰ(200)均大于15,可作为SmCo5垂直磁化...

关键词: 射频磁控溅射 , SmCo5 , 垂直磁化膜 , Cu薄膜

NdTbCo/Cr非晶垂直磁化膜的制备及性能

程伟明 , 李佐宜 , 杨晓非 , 林更琪 , 晋芳 , 孙翔

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.04.002

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了NdTbCo/Cr非晶垂直磁化膜.探讨了溅射功率与溅射时间对薄膜磁性能的影响,发现当溅射功率为250 W,溅射时间为4 min时,垂直膜面方向矫顽力为272.8 kA·m-1,剩磁矩形比达到0.801,可以较好地满足高密度垂直磁记录的要求.研究了 Nd掺杂对薄膜磁...

关键词: 射频磁控溅射 , 非晶垂直磁化膜 , 矫顽力 , 剩磁矩形比 , 饱和磁化强度 , 克尔旋转角

Cr底层对DyCo薄膜磁性能与结构影响研究

晋芳 , 李佐宜 , 程伟明 , 鄢俊兵 , 林更琪 , 谢长生

功能材料

采用磁控溅射法制备了DyCo/Cr非晶垂直磁化膜.振动样品磁强计(VSM)测试结果显示,有无Cr底层的DyCo薄膜都具有垂直磁各向异性,加入Cr底层能将DyCo薄膜的矫顽力从163kA/m提高到290kA/m.薄膜断面扫描电镜(SEM)照片可以看出,Cr底层能够诱导上层的DyCo薄膜形成柱状结构.这...

关键词: 垂直磁化膜 , 稀土-过渡金属(RE-TM) , DyCo/Cr薄膜 , 矫顽力