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刘裕光 , 姜恩永 , 程启 , 孙长庆
金属学报
利用对向靶溅射（ＦＴＳ）沉积出（１１１）择优取向的单相ＴｉＮ膜，膜硬度（ＨＶ）最高可达３８００，择优取向随基板偏压增高，可由（１１１）转向（２００），晶格常数随氮气分压增高而增大，这是氮原子进入四面体间隙引起的。
关键词: ＴｉＮ薄膜 , facing targets sputtering , texture cofficident
