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金属基带的连续非接触式电化学抛光

高永超 , 程好 , 杨淑平 , 庄维伟 , 蔡渊 , 张国栋

表面技术

目的 研发一种适合工业生产连续带材的非接触式电化学抛光方法.方法 采用以磷酸-硫酸为主要氧化剂的环保型电化学抛光液对金属基带进行电化学抛光,研究阳极电流密度(JA)、电解液温度(t)、基带与电极间的距离(L)和走带速度(v)对基带表面粗糙度的影响,优化抛光工艺条件.结果 优化的工艺条件如下:JA为1...

关键词: 非接触式 , 电化学抛光 , 工艺条件 , 平均粗糙度