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CSD法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜及其电性能的研究

程蒙 , 谈国强 , 夏傲 , 任慧君 , 王艳

功能材料

利用化学溶液沉积法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜。利用XRD、FE-SEM、XPS、Agi-lent E4980A精密LCR仪及TF-Analyzer2000等分析手段对BiFeO3薄膜进行表征。结果表明,薄膜为纯相的结晶良好的多晶BiFeO3薄膜,由100~300nm的BiFeO3晶粒紧密的堆积而成,表面均匀平整。薄膜厚度为450nm。Fe的氧化态为Fe3+,并没有Fe2+出现。在10kHz时,介电常数和损耗分别为134和0.005。薄膜的剩余极化率为0.58μC/cm2,在0~250kV/cm的测试电场下漏导电流步伐保持在10-6 A/cm2以下。

关键词: BiFeO3 , 多铁薄膜 , 化学溶液沉积法 , 亲水性

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