彭英才
,
马蕾
,
康建波
,
范志东
,
简红彬
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.029
利用低压化学气相沉积(LPCVD)方法,以充Ar的SiH4作为反应气体源,在覆盖有热生长SiO2层的p-(100)Si衬底上制备了具有均匀分布的纳米晶粒多晶Si膜(nc-poly-Si).采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼谱等检测手段,测量和分析了沉积膜层的表面形貌、晶粒尺寸...
关键词:
LPCVD
,
纳米晶粒
,
多晶Si膜
,
结晶成核
,
晶粒融合
