王宽
,
刘敬成
,
刘仁
,
穆启道
,
郑祥飞
,
纪昌炜
,
刘晓亚
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2016.02.123
随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注.本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况.重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究,最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望.
关键词:
光刻胶
,
光刻技术
,
底部抗反射涂层
