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表面光电压法研究抛光硅片制造中铁沾污的来源

罗俊一 , 沈益军 , 李刚 , 刘培东 , 张锦心 , 包宗明 , 黄宜平

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.01.018

铁杂质是硅片制造过程中常见的重金属沾污,表面光电压(SPV)法可很好地用于测定P型硅中铁杂质。本文通过SPV法测试不同流程制造的P型抛光硅片中的铁沾污,找到了在P型抛光硅片制造工艺过程中引入铁沾污的主要来源。

关键词: 表面光电压法 , 铁杂质 , 抛光硅片

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