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检索条件:作者=胡加辉  

  • 论文(2)

过渡层结构和生长工艺条件对Si基GaN的影响

冯玉春 , 胡加辉 , 张建宝 , 王文欣 , 朱军山 , 杨建文 , 郭宝平

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.05.030

为了提高MOCVD外延硅基GaN材料的质量,在硅(111)衬底上以HT-AlN为缓冲层,在缓冲层上再生长变组份过渡层后外延生长GaN.过渡层为多层复合结构,分为高温变组分AlGaN、GaN、低温AlN、高温变组分AlGaN.在高温生长AlGaN和GaN层中插入一层低温生长AlN以缓解降温过程中应力对...

关键词: Si(111) , GaN , AlN , AlGaN

双缓冲层法在硅上外延生长GaN研究

朱军山 , 胡加辉 , 徐岳生 , 刘彩池 , 冯玉春 , 郭宝平

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2005.02.024

利用金属有机物化学金相沉积MOCVD在Si(111)衬底上, 以高温AlN和低温GaN为缓冲层生长的GaN薄膜, 得到GaN(0002)和(10-12)的双晶X射线衍射(DCXRD)半高宽(FWHM)分别为721和840 s.采用高分辨率 DCXRD, 扫描电子显微镜(SEM)分析.结果表明, 以1...

关键词: Si(111) , GaN , 金属有机物化学气相沉积(MOCVD) , 双晶X射线衍射(DCXRD)