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不同能量密度下脉冲激光烧蚀制备纳米Si晶粒成核生长动力学研究

邓泽超 , 罗青山 , 胡自强 , 丁学成 , 褚立志 , 梁伟华 , 陈金忠 , 傅广生 , 王英龙

人工晶体学报

在室温、10 Pa氩气环境下,采用脉冲激光烧蚀(PLA)技术,通过改变激光能量密度,在烧蚀点正下方、与烧蚀羽辉轴线平行放置的衬底上沉积制备了一系列纳米Si晶薄膜.采用SEM、Raman散射谱和XRD对纳米Si晶薄膜进行了表征.结果表明:沉积在衬底上的纳米Si晶粒分布在距靶一定的范围内,晶粒尺寸随与靶...

关键词: 脉冲激光烧蚀 , Si纳米晶粒 , 能量密度 , 成核生长动力学

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