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原子层沉积技术在新型太阳能电池中的应用?

胡航 , 董兵海 , 万丽 , 孔梦琴 , 赵丽 , 王二静 , 王世敏

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.23.002

原子层沉积技术(ALD)是一项正处于发展之中、在许多领域具有巨大应用前景的新型材料制备技术，该技术在纳米结构和纳米复合结构的制备方面显示出独特的优势，在新型薄膜太阳能电池领域呈现出巨大的发展潜力和前景。首先概述了 ALD技术的工作原理，简要介绍了近几年 ALD技术在硅基太阳能电池和铜铟镓硒薄膜电池(CIGS)中的应用，然后重点综述了原子层沉积纳米功能薄膜在染料敏化太阳能电池(DSSCs)和有机-无机杂化钙钛矿太阳能电池(PSCs)为代表的新型薄膜太阳能电池中的应用。最后，总结了原子层沉积功能薄膜的特点和优势，展望了 ALD在新能源材料与器件领域的应用前景和发展趋势。

关键词: 原子层沉积 , 纳米功能薄膜 , 染料敏化太阳能电池 , 钙钛矿太阳能电池

热阴极DC-PCVD方法制备的金刚石厚膜的生长特性和内应力

金曾孙 , 姜志刚 , 胡航 , 曹庆忠

新型炭材料 doi:10.3969/j.issn.1007-8827.2003.01.012

采用热阴极DC-PCVD(Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition)方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜,研究了金刚石厚膜的生长特性和内应力状态.由热阴极DC-PCVD方法制备的金刚石厚膜大多数为〈110〉取向,表面显露面主要是(100)面和(111)面,厚膜的表面被较多的孪晶所覆盖,部分(111)面退化为3个相互垂直的(110)面,孪晶使厚膜表面结晶特性复杂化,金刚石厚膜的晶粒沿生长方向呈现柱状生长.金刚石厚膜的生长速率随甲烷流量和工作气压的增加而增加,但随生长速率的提高金刚石膜的品质明显下降.金刚石厚膜的内应力以压应力为主,随着甲烷浓度的增加压应力增加,随着工作气压的增加压应力减小,到某个气压之后变为张应力.

关键词: 热阴极DC-PCVD , 金刚石厚膜 , 生长特性 , 内应力

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