张玉林
,
胡高宏
,
丘明
,
杨广辉
,
姚志豪
低温物理学报
doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2005.z1.117
研究表明,半导体材料在低温环境下性能可以得到很大改善.功率MOSFET低温下的优异特性已被深入揭示.本文研究了NPT型IGBT在77～300K之间的特性,实验表明,低温下NPT型IGBT的通态压降,开关损耗都有明显下降,关断拖尾现象也得到明显改善,而门槛电压略有上升.在此基础上,分析了其低温特性的物理机制以及在超导领域的潜在应用.
关键词:
低温
,
IGBT
,
NPT
