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光亮剂对三价铬电沉积行为的影响

吴慧敏 , 艾佑宏

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.07.008

同时采用小槽和Hull Cell试验,并结合稳态极化法、电势阶跃法以及SEM等测试手段,研究了光亮剂对全硫酸盐体系中三价铬电沉积行为的影响.结果表明:光亮剂的光亮效果是一个综合效应,而不是一种光亮剂的作用结果;在E＜-0.10 V的区间内,光亮剂能明显地增大阴极极化;光亮剂的加入,使镀液在4.00～22.50 A/dm2区域内能得到光亮的镀层;并且光亮剂的加入不会改变三价铬镀铬的电沉积行为,与未加光亮剂时一样仍遵循瞬时成核机理.

关键词: 三价铬电镀 , 光亮剂 , 电沉积

三价铬电镀铬的工艺研究

吴慧敏 , 艾佑宏 , 吴琼

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.01.022

通过正交法进行小槽试验和Hull Cell试验,研究了三价铬电镀工艺中的pH值、温度、搅拌、电流密度等工艺条件和参数对镀层的影响.在各不同镀液组成和工艺条件下,充分地分析了镀层的表观形貌,确定了最佳镀液组成和工艺参数:采用了主盐和导电盐均为硫酸盐的全硫酸盐体系的三价铬镀铬;当pH=2～3、Jk=15～45 A/dm2、工作温度=25～45℃时,采取静镀的方法可以得到光亮、致密的合格镀层.

关键词: 三价铬镀铬 , 工艺参数 , 铬镀层 , 电镀

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