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转底炉法制备细晶粒铜最佳条件的研究

吴中亮 , 马瑞新 , 艾琳 , 汪春平 , 孙鹏 , 张亚东 , 康勃 , 王目孔

材料导报

作为半导体用的铜靶材,其晶粒大小严重影响溅镀薄膜的品质,靶材晶粒的细化技术成为关键.依据转底炉法原理制备了一种片状铜,并对其晶粒尺寸的变化进行了研究,通过分析发现:坩埚底孔直径越小,底转盘转速越快,底转盘传热越好;在底转盘冷却效果好的情况下,下落点离底转盘的边缘越近,铜带的晶粒越小.

关键词: 转底炉法 , 铜带 , 晶粒尺寸

掺三氟乙酸TGS晶体生长及其性能研究

常新安 , 艾琳 , 臧和贵 , 肖卫强 , 涂衡

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.046

本文以三氟乙酸作为掺质,分别按4.4mol%、9.4mol%、13.4mol%、18.4mol%的配比进行了掺质TGS晶体生长,并对其作X射线粉末衍射分析及晶体热释电性能的测试.结果表明,三氟乙酸的掺入虽然使热释电性能有一定程度下降,但却使得晶体铁电-顺电相转变延迟,提高了晶体的居里点,并产生了一定的内偏压场.

关键词: 三氟乙酸 , TGS晶体 , 晶体生长 , 居里点

退火处理对DKDP晶体光学均匀性的影响研究

常新安 , 涂衡 , 臧和贵 , 艾琳

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.023

分别对不同生长速度的DKDP晶体进行了退火处理.结果表明,适当温度的退火处理能有效地提高晶体的光学均匀性,尤其是对快速生长的晶体质量提高更为显著.在实验温度范围内,退火温度越高,质量改善越明显.对退火机理进行了初步讨论.

关键词: DKDP晶体 , 热退火 , 光学均匀性

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