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低熔点金属(Ga,In,Sn)对铝合金水解性能的影响

王凡强 , 王辉虎 , 王建 , 芦佳 , 罗平 , 常鹰 , 马新国 , 董仕节

中国有色金属学报(英文版) doi:10.1016/S1003-6326(16)64100-6

以低熔点金属(Ga,In,Sn)作为合金元素,采用机械球磨法制备Al-In-Sn和Al-Ga-In-Sn合金.研究In和Sn的质量比以及Ga的含量对铝合金水解性能的影响.采用X射线衍射、扫面电镜和能谱等手段分析铝合金的成分和形貌.结果表明:Al-In-Sn三元合金主要由Al和两种金属间化合物In3Sn和InSn4组成.所有Al-In-Sn三元合金在室温下的水解活性都很低.当In和Sn的质量比为1:4时,三元合金具有最高的产氢性能.当Ga加入三元合金后,铝合金在室温下的水解活性得到极大的改善,这可能是由于Ga的加入一方面促使铝合金缺陷的产生,另一方面促进Ga-In3Sn-InSn4(Ga-In-Sn)共晶合金在铝合金表面的形成.Al原子能溶入该共晶合金并成为水解过程中的活性点.共晶合金的尺寸小及其在Al合金表面分布均匀是Al-Ga-In-Sn四元合金较强水解活性的主要原因.

关键词: 铝合金 , 低熔点金属 , 水解 , 产氢 , 机械球磨法

石墨相g-C3N4的制备及其可见光活性的影响因素

祝佳鑫 , 李志浩 , 周鹏 , 王辉虎 , 陈钊 , 彭大硌 , 芦佳 , 董仕节

中国有色金属学报

利用二氰二胺与尿素的复合粉末作为前驱体,通过简单的高温烧结法制备石墨相g-C3N4光催化剂.采用XRD、FESEM、TEM、BET、XPS和DRS等分析手段对g-C3N4的微观结构进行表征,并考察尿素加入量、催化剂浓度、染料初始浓度、溶液pH值以及光源等对光催化降解甲基橙的影响.结果表明:复合粉末前驱体所制备的g-C3N4具有典型的多孔结构,相比于纯二氰二胺或纯尿素所制备的产物具有更高的比表面积.随着尿素含量增加,g-C3N4产物的禁带宽度逐渐增大,而其表面的C和N摩尔比则从0.70降至0.60.可见光光催化降解甲基橙的实验结果显示随着尿素含量的增加,g-C3N4的光催化活性也随之增强,表明g-C3N4的表面化学组成及其氧化还原能力对可见光光催化活性起主要作用,而比表面积起次要作用.

关键词: g-C3N4 , 甲基橙 , 尿素 , 二氰二胺 , 光催化

ZnO纳米柱状阵列表面AgX等离子基元修饰及其可见光光催化活性

芦佳 , 王辉虎 , 董一帆 , 王凡强 , 董仕节

催化学报 doi:10.1016/S1872-2067(14)60055-3|

采用浸渍法制备了表面AgX(X = I, Br)等离子基元修饰的ZnO纳米柱状阵列,研究了浸渍浓度和时间以及紫外光光照预处理对ZnO纳米柱状阵列可见光光催化活性的影响。采用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪、紫外可见漫反射吸收光谱以及X射线光电子能谱仪等手段对ZnO纳米柱状阵列的形貌、相组成、禁带宽度及其表面特性进行了表征。结果显示, AgBr颗粒分布于ZnO纳米柱状阵列的顶端及顶端侧面,同时AgBr颗粒之间相互接触而形成网状结构。通过紫外光光照预处理, AgBr表面出现细小颗粒,形成Ag/AgBr/ZnO纳米复合结构。可见光光催化降解甲基橙结果表明,在相同工艺条件下所制AgBr/ZnO的可见光光催化活性明显优于AgI/ZnO,且与浸渍浓度及时间有关。由于ZnO纳米柱状阵列的比表面积大, AgBr的可见光响应特性以及Ag/AgBr纳米结构的表面等离子效应,经过紫外光光照预处理形成的Ag/AgBr/ZnO纳米复合结构表现出最好的可见光光催化活性。

关键词: 溴化银 , 氧化锌 , 浸渍法 , 可见光催化活性 , 甲基橙

RGO/ZnO 纳米棒复合材料的合成及光催化性能

芦佳 , 王辉虎 , 董一帆 , 常鹰 , 马新国 , 董仕节

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2016.12.008

采用水热合成法制备ZnO纳米棒及RGO/ZnO纳米棒复合材料。研究不同含量的RGO对RGO/ZnO纳米棒复合材料光催化活性的影响。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射电子显微镜(FESEM )、光电子能谱仪(XPS)及漫反射紫外‐可见吸收光谱(UV‐Vis)检测手段对RGO/ZnO进行表征。结果显示:RGO与ZnO纳米棒成功复合。加入GO的含量不同,获得的RGO/ZnO样品在可见光区域的吸光度值不同。以甲基橙作为模拟污染物的光催化结果表明,RGO/ZnO复合材料具有高的紫外‐可见光光降解效率,加入GO与ZnO的质量比为3%时,样品紫外‐可见光光催化性能最佳,120min内甲基橙基本可以完全降解;且在波长大于400nm可见光照射下,RGO/ZnO具有一定的可见光活性,180min内其降解甲基橙效率最大可达26.2%。同时,RGO/ZnO具有较好的光稳定性。

关键词: 还原石墨烯 , ZnO , 光催化 , 甲基橙

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