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陈平 , 李华 , 梁振锋 , 赵峰 , 苏东艺
金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.z1.188
概要介绍了用粉末冶金工艺制备磁控溅射沉积TiN膜用钛靶的方法,探讨了其技术、经济可行性.结果表明,该方法制备钛靶是可行的,并可推广应用于其它钛复合靶、钛合金、钛化合物靶制备.
关键词: 磁控溅射 , 钛靶 , 粉末冶金
