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Ce3+单掺和Ce3+,Eu3+共掺杂CaF2晶体生长与光学特性研究

刘振华 , 臧春雨 , 贾志旭 , 苏晶 , 唐秀杰 , 王传志 , 郝新焱 , 刘海南

人工晶体学报

采用Bridgman方法在氩气氛保护的单晶炉内生长出了Ce3+掺杂的以及Ce3+和Eu3+共掺的CaF2晶体,利用Ce2O3和E2O3分别与氢氟酸反应合成了CeF3和EuF3掺杂试剂,对掺杂晶体生长的起始原料-特定组成的CaF2、CeF3、EuF3混合物进行了高温氟化处理,确定了掺杂晶体的物相,讨论了掺杂浓度对晶体紫外波段透过率的影响.此外,还初步分析了Ce3+和Eu3+共掺的CaF2晶体作为紫外滤光材料的可行性.

关键词: 稀土掺杂 , Bridgman方法 , 光学特性 , 紫外滤光

ZnO基薄膜晶体管有源层制备技术的研究进展

苏晶 , 刘玉荣 , 莫昌文 , 简平 , 李晓明

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132803.0315

氧化锌基薄膜晶体管(ZnO-TFT)器件的性能受到多种因素的影响,如半导体有源层、栅介质层的质量、栅介质与有源层的界面质量,其中有源层的质量起到至关重要的作用,而在影响器件有源层方面,制备方法是其中一个重要的因素.目前,已有多种ZnO半导体有源层制备技术应用于ZnO-TFT的制备(如原子层沉积、脉冲激光沉积、射频磁控溅射、溶液法等).为了更直观地了解各种制备技术所获得的ZnO-TFT器件性能的优劣,并让研究者在选择制备技术时有所参考,文章概述了各种有源层制备技术的特点,并比较了这些制备方法所制备的ZnO TFT器件性能.通过对比各器件性能参数可以发现,脉冲激光沉积和射磁控溅射所制备的ZnO有源层具有较优的性质,并被广泛使用.文章还对ZnO-TFT的优化方法做了简单介绍.

关键词: 氧化锌 , 薄膜晶体管 , 有源层 , 制备方法

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