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超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜的可见光光电化学性能

罗晶晶 , 范旭良 , 马荣伟 , 胡浩 , 牛振江

电镀与涂饰

在FTO(即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃)基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电镜(SEM)和漫反射–紫外可见光谱(UV-Vis DRS)表...

关键词: 电沉积铜 , 氧化亚铜 , 二氧化锡 , 薄膜 , 光电化学 , 光电流密度