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多晶硅栅耗尽导致的SRAM单比特位失效分析

李睿 , 王俊 , 孔蔚然 , 马惠平 , 浦晓栋 , 莘海维 , 王庆东

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.05.014

本文分析了一种静态随机存储器单比特位失效的机理.通过纳米探针测量,发现该比特位写操作失败是由负责存取的N型晶体管的驱动力较弱导致.TEM分析显示该晶体管的多晶硅栅中晶粒尺寸较大,这有可能导致栅的功函数变化以及靠近栅介质层区域的掺杂较轻.我们用SPICE模拟证实了晶体管驱动力变弱的原因是局域的多晶栅耗尽.

关键词: 静态随机存储器 , 单比特位失效 , 多晶硅栅耗尽

工艺参数对电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的影响

潘俊德 , 田林海 , 莘海维 , 贺琦

中国有色金属学报

介绍了一种应用电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的新方法, 研究了N2流量、 阴极偏压、工作气压等工艺参数对合成AlN薄膜质量的影响规律。结果表明, 随N2流量的增加,AlN薄膜的质量得以提高,当N2流量达到30mLmin-1时,可合成较纯净的AlN薄膜; 阴极偏压主要影响合成薄膜的结晶状况;此外,基体材料本身及其表面状况也对合成薄膜的质量有一定影响。

关键词: 阴极电弧源法 , AlN薄膜 , 电子浴

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