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化学复合镀(Ni-W-P)-Si3N4工艺研究

杜克勤 , 葛润洲 , 高玉周

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2004.02.003

采用化学复合镀方法,制备了(Ni-W-P)-Si3N4复合镀层;研究了镀液组成及工艺参数对镀层成分和沉积速率的影响;采用X-射线衍射分析了复合镀层表面相结构,并对复合镀层的耐蚀性及耐磨性进行了测试分析.试验结果表明:Si3N4纳米颗粒的加入影响了镀层的沉积速率,提高了沉积层的耐磨性;(Ni-W-P)-Si3N4复合沉积层仍具有与Ni-W-P沉积层相近的优异性能.

关键词: 化学复合镀 , (Ni-W-P)-Si3N4复合镀层 , 相结构

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