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检索条件:作者=董华强
岳镜光 , 钟辉 , 董华强
电镀与涂饰
提出了一种两步法退除镁合金基体上不合格化学镀镍层的工艺,即先利用F?保护基体,在酸性体系中作预退除,再利用 OH?保护基体,在碱性体系中作深度退除。通过正交试验得出了预退除步骤的最优配方为:氢氟酸400 g/L,浓硝酸50~500 g/L,十二烷基硫酸钠0.05 g/L,氯化钠0.05 g/L,柠檬...
关键词: 镁合金 , 化学镀镍 , 退镀 , 硝酸 , 经验公式