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检索条件:作者=蒋利民  

  • 论文(7)

金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工

刘柱方 , 蒋利民 , 汤儆 , 刘品宽 , 孙立宁 , 田中群 , 田昭武

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2004.03.003

运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属铜(Cu)表面实现了三维微图形加工,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。 采用规整的三维齿状结构为模板,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。 采用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对所刻蚀图案进...

关键词: 约束刻蚀剂层技术(CELT) , 金属铜 , 三维微加工 , 化学刻蚀

单晶硅表面硝酸银活化化学镀镍工艺

蒋利民 , 眭俊 , 霍盛 , 王洋 , 杜裕杰

材料保护

单晶硅表面局部金属化可用于一些特殊的技术领域,为了寻找成本低且环保的化学镀镍无钯活化工艺,以AgNO3为活化剂,加上适当的复合添加剂对单晶硅进行化学镀镍前活化处理.通过扫描电镜、耐蚀性试验及相关检测标准,研究了AgNO3浓度、活化时间、活化温度对镀层沉积速率、覆盖率和镀层光亮度、结合力及耐蚀性的影响...

关键词: 无钯活化 , AgNO3 , 单晶硅 , 化学镀镍 , 局部金属化 , 镀层性能

常温磷化过程中的开路电位-时间曲线以及成膜规律

蒋利民 , 杨永生 , 蒋熙云 , 邓文波 , 王汉丹

材料保护

目前,对常温磷化成膜机理及规律的认识十分有限,进而影响了常温磷化膜的开发和应用.通过测量常温磷化过程中磷化液的开路电位-时间曲线分析了成膜规律,采用扫描电镜(SEM)考察了成膜过程中磷化膜的形貌变化,测定了膜层的耐蚀性、孔隙率随成膜时间的变化,通过X射线衍射(XRD)分析了磷化膜的相结构.结果表明:...

关键词: 常温磷化 , 开路电位-时间曲线 , 成膜过程 , 形核 , 机理

镀膜光纤传感器ZnO压电层电沉积机理及结晶结构的研究

周雅 , 蒋利民 , 袁永瑞 , 梁桂

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.03.001

研究了镀膜光纤传感器ZnO压电薄膜电沉积的晶体结构的影响因素及沉积机理.试验表明,利用Zn(NO3)2单盐水溶液体系可在铜基上进行阴极电沉积直接得到氧化锌膜.试验研究了电沉积过程中电流密度、沉积温度、Zn2+浓度、pH值及沉积时间对氧化锌膜结构的影响,提出了一套稳定、实用、经济的电沉积工艺参数为:电...

关键词: ZnO薄膜 , 光纤传感器 , 阴极电沉积

甲酸水溶液体系中减缓金属腐蚀的缓蚀剂的研究

陈希挺 , 周雅 , 蒋利民 , 许海东

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.05.003

为降低酸性脱漆剂对飞机金属材料的腐蚀,以脱漆剂中经常使用的甲酸水溶液为研究介质,以AIL4130、TCA、LY12、20#钢等材料为研究对象,通过腐蚀失重法、塔菲尔曲线测量和SEM观察,筛选出对以上各金属材料缓蚀效果较好的复配缓蚀剂体系,即苯甲酸钠、硫脲、六次甲基四胺、十二烷基磺酸钠、苯并三氮唑等缓...

关键词: 复配缓蚀剂 , 甲酸 , 金属材料 , 缓蚀效率 , 飞机

低碳醇氧化电极表面pH值的测量及应用

蒋利民 , 王汉丹 , 杨永生 , 李维 , 彭淑合 , 田昭武

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2009.11.021

研究了Ir/IrO_2微平面电极在低碳醇氧化电极表面的pH-E_(ocp)(pH-开路电位)关系,测量了几种低碳醇在电化学氧化过程中距离电极表面50 μm以内的不同距离处的pH值,对不同低碳醇电化学氧化产生的酸强度进行了比较与分析;Ir/IrO_2微平面电极的pH-E_(ocp)关系曲线与"醇-羧酸...

关键词: 低碳醇 , 电化学氧化 , pH测量 , Ir/IrO_2微平面电极 , 刻蚀

3种常温磷化促进剂的作用及其协同效应

蒋利民 , 杨永生 , 王汉丹

材料保护

常温磷化无毒、节能,但成膜速度慢,且膜的耐蚀性能差.为此,在传统的常温磷化液中加入3种促进剂,运用扫描电镜、退膜法、硫酸铜点滴试验、电化学测试等手段,对磷化膜表面形貌、膜重、耐蚀性能等进行了测量,研究了3种促进剂在常温磷化中的促进作用及机理.分析促进剂之间的协同效应,优选出加速效果比亚硝酸盐更好的复...

关键词: 常温磷化 , 复合促进剂 , 促进作用 , 协同效应