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抛光铜箔衬底上石墨烯可控生长的研究

孙雷 , 沈鸿烈 , 吴天如 , 刘斌 , 蒋烨

人工晶体学报

本文报导以固态聚苯乙烯为碳源,经机械抛光和电化学抛光双重处理的铜箔为衬底,用CVID法进行石墨烯可控生长的研究结果.用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、光透射谱、扫描隧道显微镜和场发射扫描电镜对生长的石墨烯进行了表征.研究发现经过抛光处理的铜箔由于其平整的表面和很低的表面粗糙度,在其上生长的石墨烯...

关键词: 固态碳源 , 机械抛光 , 电化学抛光 , 石墨烯 , 可控生长