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  • 论文(7)

低温等离子体技术脱除大气污染物的研究进展

张贵剑 , 李凯 , 林强 , 宁平 , 汤立红 , 王访 , 袁琴

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.01.024

随着人们对低温等离子体的不断深入了解,低温等离子体技术具有了更广阔的应用前景;利用低温等离子体技术治理大气污染也是目前很有吸引力和发展前景的技术.主要介绍了低温等离子体应用于大气污染治理的研究进展;分别讨论了低温等离子体在处理含氮氧化物工业废气、含硫工业废气、可挥发性有机污染物等方面的应用及其研究进...

关键词: 低温等离子体 , 脱除 , 大气污染物

光纤用四氯化硅提纯技术的研究

莫杰 , 袁琴 , 武鑫萍 , 王铁艳

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2015.04.013

高纯度光纤级四氯化硅是制作光纤预制棒的主要原料,其质量好坏直接影响光纤产品的质量.目前,我国光棒生产厂家使用的光纤级四氯化硅总量的85%来自进口.国内的四氯化硅提纯技术虽然对于金属离子杂质的去除有较好的效果,但是对于含氢杂质(尤其是三氯氢硅)的去除效果却不够理想,产品普遍存在氢杂质含量较高的问题,无...

关键词: 四氯化硅 , 光纤 , 光化学反应 , 精馏提纯

SiCl4中SiHCl3的去除及检测方法研究进展

毛威 , 苏小平 , 王铁艳 , 袁琴

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2011.01.026

SiCl4是光纤制造的关键原材料,其质量的高低决定着光纤的传输性能.SiHCl3是SiCl4中常见的一种含氢杂质,其含量的多少对SiCl4质量产生严重影响.综述了国内外对于SiCl4中SiHCl3去除方法的研究进展,主要有精馏法、等离子体法、光化法,以及吸附法、部分水解法等其他一些方法.国内常用精馏...

关键词: SiCl4 , 光纤 , SiHCl3 , 去除 , 检测

国内外光纤用SiCl4研究进展

孙福星 , 王铁艳 , 袁琴 , 韩国华 , 耿宝利

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2008.04.025

SiCl4作为生产光纤预制棒的基础原料, 其质量好坏直接影响光纤传输的质量, 必须最大限度脱除引起光纤吸收损耗的杂质.综述了光纤用SiCl4的质量标准, 并应用傅立叶变换红外光谱(FT-IR)技术对国内外光纤用高纯SiCl4样品进行了对比.测试结果表明, 本工艺产品含氢杂质含量明显降低, 同时金属离...

关键词: SiCl4 , 光纤 , 提纯 , 工艺

亲水作用色谱及其在环境分析中的应用进展

郭亚丽 , 袁琴 , 李瑞萍 , 黄应平

色谱 doi:10.3724/SP.J.1123.2011.11046

亲水作用色谱( HILIC)是一种分离极性和亲水性化合物的液相色谱模式,其作为反相液相色谱(RPLC)的重要补充,近年来越来越受到各个领域的关注和重视.这不只是因为强极性化合物的分离问题在各个领域引起了重视,而且因为与RPLC比较,HILIC具有流动相组成黏度低、色谱柱渗透性好、与质谱联用的灵敏度高...

关键词: 亲水作用色谱 , 环境分析 , 应用 , 综述

煤烟尘制取四氯化锗的研究

刘福财 , 袁琴 , 王铁艳

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2011.04.025

解释了以煤烟尘为原料在制取四氯化锗过程中产生液泛现象的原因.研究发现,在煤烟尘中,少量的锗以GeS,GeO2形式存在,而绝大部分锗则存在于煤烟尘的有机物中.在煤烟尘有机物中含有大量的炭水化合物,它们与有机物中的硅酸盐将形成孔状结构的颗粒,将锗包含其中.这样的结构使煤烟尘在氯化蒸馏时漂浮于盐酸表面,不...

关键词: 煤烟尘 , 四氯化锗 , 液泛 , 收率

硅胶色谱柱的亲水作用保留机理及其影响因素

李瑞萍 , 袁琴 , 黄应平

色谱 doi:10.3724/SP.J.1123.2014.04048

亲水作用色谱( HILIC)是替代反相色谱( RPLC)分离强极性及亲水性化合物的另一色谱模式,其分离机理与RPLC有很大不同,具有和 RPLC互补的选择性。在 HILIC模式中,采用正相色谱( NPLC)中的极性固定相及含高浓度有机溶剂(通常为乙腈)的水溶液为流动相。硅胶是开发最早、研究最为深入及...

关键词: 亲水作用色谱 , 保留机理 , 硅胶柱 , 流动相组成 , 柱温

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