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化学镀Ni-W-P镀液及工艺优化研究

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.02.006

采用正交试验,以镀层的耐硝酸变色时间为评价标准,得到化学镀 Ni-W-P溶液最佳配方为: 20 g/L 硫酸镍、 20 g/L 钨酸钠、 20 g/L 次磷酸钠、 40 g/L 络合剂、 20 g/L 缓冲剂、 pH值为 6.对该优化镀层的沉积速度、耐蚀性、孔隙率及结合力进行了测定,并与Ni-P二元合金镀层进行了比较.结果表明,该优化镀层的性能优于 Ni-P二元合金.采用扫描电镜及X-射线衍射仪分别对该优化镀层的微观形貌、组成及结构进行的分析表明,该镀层结构致密,磷含量高达 13.9%,且为非晶态结构.

关键词: 化学镀 , Ni-W-P合金 , 正交试验 , 耐蚀性

酸性化学镀Ni-Cu-P工艺及性能研究

刘波 , 黄燕滨 , 张平 , 孟昭福 , 刘德钢 , 许晓丽 , 褚庆国

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.03.006

研究了酸性化学镀Ni-Cu-P镀液的pH值对镀层性能和镀速的影响.采用酸性镀液体系,通过正交实验,确定了化学镀Ni-Cu-P的工艺配方为:0.3 g/L CuSO4·5H2O, 25 g/L NiSO4·6 H2O, 30 g/L 柠檬酸钠, 20 g/L 络合剂, 40 g/L 缓冲剂, 25 g/L NaH2PO 2·H2O,0.16 g/L 稳定剂,θ 80～85 ℃,pH值5～6,t为2 h.通过X射线衍射实验研究了镀层的晶型结构,并对化学镀Ni-Cu-P镀层与Ni-P镀层的极化行为进行了研究. 结果表明:所得的化学镀Ni-Cu-P镀层为非晶态结构;其外观光亮,耐硝酸腐蚀时间大于8 00 s,孔隙率为9级,镀速为8 μm/h; Ni-Cu-P合金镀层比Ni-P镀层具有更优异的耐蚀性能.

关键词: 酸性化学镀 , Ni-Cu-P , 正交实验

稀土对化学镀Ni-W-P镀液及镀层性能的影响

黄燕滨 , 许晓丽 , 孟昭福 , 张平 , 刘波

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.03.002

研究了4种稀土元素 Nd、Pr、Ce、La的硫酸盐及其氧化物对化学镀Ni-W-P镀液的沉积速度和镀层耐硝酸滴定变色时间的影响.结果表明,4种稀土的硫酸盐均降低了镀液的沉积速度,并使镀层的耐蚀性能下降;Nd、Ce、La 的氧化物亦使镀层的耐蚀性下降,而当ρ(Pr2O3)为4 mg/L时,镀液的稳定性为未加P r2O3时的2倍,其沉积速度明显加快,镀层的耐硝酸滴定变色时间超过2 000 s,硬度明显增大,SEM图表明该镀层呈现致密而均匀的胞状形貌,表面质量优于未加稀土的镀层 ,X-射线衍射图也表明Pr2O3促进了镀层的非晶态化程度,从而提高其耐蚀性能.

关键词: 化学镀 , Ni-W-P , 稀土 , 耐蚀性

W含量对化学镀Ni-W-P镀层的影响研究

许晓丽 , 李素梅 , 宋志刚 , 贾志辉

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2007.09.013

为提高化学镀Ni-W-P镀层的耐蚀性,拓宽其应用,采用单因素试验方法,研究了镀液中Na2WO4·2H2O的浓度对化学镀Ni-W-P镀层的耐蚀性能的影响.结果表明,钨酸钠浓度为20 g/L时,镀层的耐蚀性能最好.应用扫描电镜和X射线衍射分析了镀层的微观形貌和组织结构,结果表明,W含量的变化影响了镀层胞状组织的尺寸,镀层的组织致密和非晶态结构是其耐蚀性能高的重要原因.

关键词: 化学镀 , Ni-W-P , 单因素试验 , 微观形貌 , 耐蚀性

Ni-W-P/Pr2O3化学镀层的电化学行为

许晓丽 , 樊俊果 , 宋志刚 , 李素梅 , 张新喜

材料保护

采用极化曲线技术研究化学镀层的电化学性能,受到测量信号的干扰,且不能研究其中各子过程及其动力学的特征.以化学镀方法制备了Ni-W-Pr2O3镀层和Ni-W-P镀层,利用交流阻抗技术,研究了基体、Ni-W-P和Ni-W-P/Pr2O3合金镀层在3.5%NaCl水溶液中的腐蚀电化学行为,得出了电位时效图、交流阻抗谱图,并利用拟合程序EQUIVCRT对阻抗试验数据进行了拟合.结果表明:Ni-W-P/Pr2O3镀层电阻随着时间的延长呈现出不断增长的趋势,钝化膜在不断生成;镀层电阻在6.0h后迅速增大,镀层有自封闭现象,稀土失去电子,使镀层更加致密;Ni-W-P/Pr2O3镀层比Ni-W-P镀层具有更优异的耐蚀性能.

关键词: 化学镀 , Ni-W-P/Pr2O3镀层 , 交流阻抗 , 电化学行为

ITO防电磁辐射玻璃制备方法及性能研究

李建涛 , 许晓丽

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2009.04.025

采用直流磁控溅射技术在玻璃基板上沉积ITO薄膜,通过调整基板温度、薄膜厚度得到了最低方阻1.4Ω/□.薄膜透光率超过76%.对样品在150 kHz到18 GHz频段内电磁屏蔽效能采用屏蔽室法进行测试,1 G频率点得到的屏蔽效能最好,达到了54 dB,在屏蔽困难的低频段,150 kHz频率点的屏蔽效能达到24 dB.

关键词: ITO薄膜 , 磁控溅射 , 电磁屏蔽 , 屏蔽效能

碳纳米管对金属网栅电磁屏蔽效能及可视性的影响

马志梅 , 马富花 , 李继红 , 王腾 , 许晓丽

表面技术

目的：提高金属网栅的屏蔽效能及可视性能。方法采用纳米复合电镀工艺,将碳纳米管附着在金属网栅表面,并对网栅的微观结构、屏蔽效能、透光率进行测试分析。结果施镀后,金属网栅表面的碳纳米管分布均匀,在10 kHz~1 GHz频段的电磁屏蔽效能提高了3~5 dB,可见光透光率降低了5%,金属光泽有所消除。结论碳纳米管可有效提高金属网栅的屏蔽效能和可视性能。

关键词: 金属网栅 , 纳米复合镀 , 碳纳米管 , 屏蔽效能 , 可视性能

三种镍基合金化学镀镀层的耐蚀性能

许晓丽 , 樊俊果 , 李素梅 , 候亚威

腐蚀与防护

本工作沉积出了高磷含量的Ni-P合金镀层和Ni-W-P、Ni-W-P/Pr2O3镀层.利用浸泡试验对比了三种镀层在5%NaCl溶液中的耐蚀性能,利用极化曲线法对比了三种镀层在3.5%NaCl水溶液中的腐蚀电化学行为.结果表明,三元合金镀层具有比二元合金镀层更优异的耐蚀性能,三元合金镀层在添加稀土后耐蚀性能进一步提高.镀层的低孔隙和易钝化现象是其耐蚀性能高的重要原因.

关键词: 化学镀 , 极化曲线 , 耐蚀性能 , Ni-P , Ni-W-P , 稀土