谢婷婷
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王向红
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吴百中
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高斌
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郎文昌
材料保护
为实现电弧离子镀TiSiN薄膜成分可控,通过改变靶的相对电流在304不锈钢表面沉积TiSiN薄膜,采用厚度仪、能谱仪、扫描电镜、X射线衍射仪及摩擦试验研究了其形貌、结构及摩擦性能.结果表明:TiSiN薄膜中Si以非晶态Si3 N4形式存在,抑制了面心立方结构的TiN晶粒生长,形成纳米晶TiN/非晶Si3N4(nc-TiN/α-Si3N4)纳米复合结构;与TiN薄膜相比,TiSiN薄膜具有更平整的表面,Si含量为4.08％(原子分数)时薄膜表面最光滑平整;TiN薄膜的硬度为2 312 HK左右,掺杂Si元素后,由于细晶强化作用,薄膜的硬度显著提高,Si含量为2.76％(原子分数)时达到最大值,约为3 315 HK;进一步增加Si含量,TiSiN薄膜硬度略有下降;TiSiN薄膜的摩擦系数明显低于TiN薄膜,且随着Si含量增加,摩擦系数逐渐变小,在Si含量为2.76％和4.08％(原子分数)时低至0.4左右.
关键词:
TiSiN薄膜
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电弧离子镀
,
结构
,
硬度
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摩擦系数
汪少杰
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谢婷婷
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余超
,
宋振纶
材料保护
NdFeB磁体表面电沉积铝可提高其耐蚀性，但无法在水溶液中进行。为此，在BMIC（1-丁基-3-甲基氯化咪唑）-AlCl3型离子液体中添加甲苯添加剂对NdFeB磁体恒流电沉积Al层。探讨了甲苯含量对电沉积Al层显微形貌及表面粗糙度的影响，研究了最佳甲苯含量离子液体电沉积Al层的耐蚀性。结果表明：在BMIC-AlCl3离子液体中添加20％甲苯，Al沉积层致密、平整，结合良好，甲苯的加入使Al沉积层的晶粒取向产生了变化，细化了晶粒，整平了沉积层；相对于纯离子液体电沉积灿层，添加20％甲苯所得Al沉积层的耐蚀性明显提高。
关键词:
电沉积Al
,
离子液体
,
NdFeB
,
甲苯
,
耐蚀性
余超
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冒守栋
,
汪少杰
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谢婷婷
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孙可卿
,
宋振纶
材料导报
采用直流磁控溅射法在铜基底上制备了TiAlN/SiO2选择性吸收薄膜.通过调整制备过程中的工艺参数,得到优化后的组合薄膜(铜基底),其吸收率可达0.92、发射率为0.06.在此组合膜系中,TiAlN为吸收层,SiO2为减反层.对基底为铜片的样品在550℃退火2h,其性质保持稳定,表明TiAlN/SiO2组合薄膜在高湿太阳能选择性吸收领域具有一定的应用前景.
关键词:
选择性吸收薄膜
,
吸收率
,
发射率
,
热稳定性
