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退火过程对c轴择优取向的ZnO薄膜光学性质的影响

谢学武 , 廖源 , 张五堂 , 余庆选 , 傅竹西

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2010.02.017

利用溶胶凝胶法在石英衬底上采用旋涂法制备出ZnO薄膜,通过X射线衍射仪发现不同的退火温度对ZnO薄膜的择优取向有很大影响;通过紫外可见分光光度计和室温发光谱可以看出,制备的薄膜有很好的光学透过性和很强的紫外发光特性,而不同的退火温度对其光学性质有很大的影响.实验发现采用此种方法在650℃左右退火是一个合适的退火温度,结构特性和光学性质都相对较好;采用热分析方法可知ZnO将在375℃左右从非晶转向结晶状态,因而在常规ZnO薄膜制备方法中增加一步500℃的热处理将有助于提高ZnO薄膜的结晶质量.

关键词: 材料 , 溶胶凝胶法 , ZnO薄膜 , c轴择优取向 , 退火

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